:
1.最小线宽:小于
2.加速电压:
3.电子束直径:小于
4.套刻精度:1nm(mean+0.2σ
5.拼接精度:1nm(mean+0.2σ
6.加工晶圆尺寸:4-18英寸
7.描电镜分辨率:小于
主要特点:
1.采用超高亮度和超高稳定性的TFE电子枪;
2.出色的电子束偏转控制技术;
3.采用场尺寸调制技术,电子束定位分辨率可达0.0002nm;
4.采用轴对称图形书写技术,图形偏角分辨率可达0.002mrad;
5.应用领域广泛,如微纳器件加工,研究用掩膜制造,纳米加工(例如单电子器件、量子器件制作等),高频电子器件中的混合光刻,图形线宽和图形位移测量等。
……
需要成就点:300点!
……
沐阳大概看了下简介,光从技术参数上就看出它的先进性。
还有更加先进的光刻机,但是,以星海集团目前的条件,买了也造不出来,而且需要的成就点非常多。
这个EBL01号称可以制造1nm以下的芯片,但量产成本会比较高。
因此,当前的情况,星海集团可以从7nm芯片工艺开始,可以保证在2018年之前保持在世界第一地位。
等竞争对手可以批量搞7nm芯片了,星海集团再推出5nm或3nm芯片。
有些设备应用,也用不着这么高端的芯片,28nm芯片工艺足够,也是未来十年内的主流。
只是说,沐阳不打算玩什么中低端芯片。
另外,沐阳打算弄一些小于1nm的芯片,用于制造量子计算机和超算,这类芯片他打算自用。
接下来,沐阳确认购买EBL01技术。
十几分钟后,沐阳把EBL01技术吸收完毕。
他感觉自己对光刻机有了更深入的了解,如今就是实实在在的芯片制造顶尖专家。
买了光刻机的技术,沐阳还得购买芯片设计技术、芯片设计相关软件和相关设备。
这个芯片设计软件,他就不打算自己研发了,他在芯片软件设计这一块是弱点,靠自己研究不知道得花多长时间。
而且,目前公司形势严峻,一旦漂亮国知道自己公司在搞芯片了,会对星海集团搞各种限制。
沐阳现在赶时间,同时还有更多更重要的事情需要他亲自处理。
于是,他又花了400点成就点。
这一晚,沐阳就花了700点成就点,还是有些心疼。
等吸收完新技术后,沐阳实在有些发困了,回床休息。
翌日,沐阳是被宋雪露吧嗒一下脸蛋睡醒的。
“孩子他爸,生日快乐。”
“谢谢,有你真好。”
沐阳睁开朦胧的双眼,揽过妻子的纤腰。
他老婆跟他同年出生,只比他小几个月。
系统8级时,商店有驻颜、延迟衰老
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